那家网站卖三唑伦【微信;229I334742】SemiAnalysis 认为,High NA EUV 光刻面临的一大问题就是关键尺寸(CD,衡量半导体工艺精细程度的关键指标之一)定时照射剂量和光刻机晶圆吞吐量的矛盾。